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參考價	面議

全部產品列表

創新點：: OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發鍍膜，而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。

MSK-SFM-192-LD高通量微型球磨機特別適合材料組織基因計劃中陶瓷材料的混合和球磨。

MSK-SFM-192是一款高通量的微型球磨機，可設置球磨或混合192個樣品。設備中配有0.5ml混料罐和氧化鋯微球，通過氧化鋯微球對樣品進行高速地撞擊來達到有效的球磨和混合效果。此款設備特別適合材料組織基因計劃中陶瓷材料的混合和球磨。

技術參數

工作電壓	220VAC 50/60HZ，375KW
震動頻率	50-2000次/分鐘
振幅大小	32mm
樣品架及工位（可放樣品數量）	標配有：適用0.5ml球磨罐樣品架，工位：2×96（192個）可選配：適用2ml球磨罐樣品架，工位為2×48（96個）適用5ml球磨罐樣品架，工位為2×24（48個）
球磨罐	標配有1000個0.5ml尼龍球磨罐球磨罐尺寸： 0.5ml: 8 OD x x32 L, mm 2ml: 10.5 OD x 43 L, mm 5ml: 12.5 OD x 53 L, mm （0.5ml）(2ml) (5ml)
磨球	配有各種尺寸的氧化鋯磨球
儀器尺寸	L514 × W380 × H520mm
凈重	45kg